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2025-12-11
美光宣布,已开始出货全球首款基于1γ制程节点的LPDDR5X内存样品,旨在提升旗舰智能手机的AI性能。
1γ制程是第六代10nm级别DRAM工艺,其特征尺寸约为11到12纳米,通常在韩国半导体行业被称为1c DRAM。
美光的1γ节点LPDDR5X内存是目前市场上最先进的低功耗DRAM产品之一,主要用于移动设备。

美光目前正向部分合作伙伴提供基于1γ节点的16GB LPDDR5X内存样品,并计划在2026年推出从8GB到32GB的全系列容量产品,以满足旗舰智能手机的需求。
美光的这款LPDDR5X内存具备行业最快的10.7Gbps速度,同时功耗降低了最高20%。
此外,为了支持更轻薄的智能手机设计,美光将LPDDR5X内存设计为行业最薄的封装,厚度仅为0.61毫米,比竞品薄6%,比上一代低14%。
美光还在其新闻稿中指出,1γ节点的LPDDR5X是其首款采用极紫外光刻(EUV)技术的移动内存解决方案。
与此同时,美光的韩国竞争对手三星和SK海力士也在加速开发自己的1c DRAM,今年1月,SK海力士已完成1c DDR5的大规模生产认证;三星则将第六代10nm级别DRAM的开发目标推迟到2025年6月。


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