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2025-12-16
美光宣布,基于最新1γ纳米工艺的DDR5 DRAM内存芯片已经投产,性能、能效、密度等各项指标都大幅提升。
DRAM内存行业的节点工艺一直不标注具体数值,而是1a、1b、1c、1α、1β、1γ这样的迭代顺序,越来越先进,其中1a比较接近20nm,1γ则接近10nm。

这是美光内存第一次用上EUV极紫外光刻工艺,而三星、SK海力士早就用了,不过美光这次同时还引入了下一代HKMG金属栅极技术,预计全新的BEOL后端工序。
不过美光没有透露使用了多少EUV光刻层,猜测目前只是在关键层上用EUV,否则就得多重曝光,增加时间和成本。
美光的1γ DDR5单颗容量为16Gb(2GB),可以轻松组成单条容量128GB的企业级产品,号称容量密度比1β的再次增加30%,事实上之前每代提升工艺都能增加30%的密度。

它只需要1.1V的标准电压,就能达到9200MHz(严格来说是9200MT/s)的超高频率,而目前市面上常见的高频内存往往得1.35V甚至1.45V的高电压。
更低的电压不但更安全,还能节省功耗,号称比1β工艺的最多降低20%。

目前,美光1γ DDR5内存只在日本工厂生产,后续会逐步扩大产能,相关产品预计今年年中左右上市。
未来,美光在中国台湾的工厂也会引入EVU,并使用1γ工艺制造GDDR7显存、LPDDR 5X高频内存(最高9600MHz)。

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